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    分子動力學模擬原子鎢/鎳濺鍍在銅基材上之薄膜成長行為
    • 機械工程系 /103/ 碩士
    • 研究生: 林岳宗 指導教授: 林原慶
    • 本論文使用分子動力學模擬(molecular Dynamics, MD)模擬原子鎢/鎳濺鍍在銅基材,探討薄膜的成長機制與成長形貌,並且使用粗糙度及覆蓋率來評估薄膜品質,而模擬的濺鍍製程參數包括基材的…
    • 點閱:275下載:3

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    低電阻率摻銅氧化鈷p型導電薄膜之開發
    • 電子工程系 /103/ 碩士
    • 研究生: 李俊融 指導教授: 趙良君
    • 本研究利用反應式離子束濺鍍法沉積氧化鈷與摻銅氧化鈷薄膜,改變氧氣/氬氧的流量比例(Opf = O2/(Ar+O2))及沉積溫度,探討製程參數對氧化鈷及摻銅氧化鈷之影響。研究結果顯示在室溫下所沉積之樣…
    • 點閱:312下載:0
    • 全文公開日期 2020/06/29 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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