檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "sputtering deposition".ekeyword (精準) and year="103"
個人化服務 :
排序:
每頁筆數:
已勾選0筆資料
1
本論文使用分子動力學模擬(molecular Dynamics, MD)模擬原子鎢/鎳濺鍍在銅基材,探討薄膜的成長機制與成長形貌,並且使用粗糙度及覆蓋率來評估薄膜品質,而模擬的濺鍍製程參數包括基材的…
2
本研究利用反應式離子束濺鍍法沉積氧化鈷與摻銅氧化鈷薄膜,改變氧氣/氬氧的流量比例(Opf = O2/(Ar+O2))及沉積溫度,探討製程參數對氧化鈷及摻銅氧化鈷之影響。研究結果顯示在室溫下所沉積之樣…